英特爾談 Intel 14A 可能使用 High NA EUV：兩種光刻技術(shù)設計規(guī)則兼容

IT之家 4 月 30 日消息，英特爾并未在 2025 Intel Foundry Direct Connect（英特爾代工大會）上明確其 Intel 14A 先進節(jié)點是否會引入 High NA EUV 光刻技術(shù)，不過代工部門高管納加?錢德拉塞卡蘭還是就相關(guān)議題發(fā)表了看法。

他表示，英特爾仍有在 14A 制程的 EUV 光刻步驟中僅使用傳統(tǒng) Low NA 或部分導入 High NA 的選項。而這兩種方案在設計規(guī)則上是兼容的，這意味著無論英特爾選擇哪條技術(shù)路徑，都不會對客戶造成影響。

英特爾已在其俄勒岡州研發(fā)晶圓廠安裝了第二套 ASML 提供的 High NA EUV 光刻系統(tǒng)，表現(xiàn)符合預期。英特爾的 High NA EUV 圖案化技術(shù)開發(fā)正穩(wěn)步向量產(chǎn)邁進，同時已掌握了 High NA EUV 在 18A、14A 級節(jié)點的數(shù)據(jù)。